真空镀膜系统报价值得信赖

CT系列镀膜机

CT(Custamued workstation)系列镀膜机系我司非标定制产品，根据您的要求单独设计，满足您的特殊需要。

特点：1、按需开发，量身定制。

2、整机采用柜式结构，密封性能好，防尘防水，安全。

3、磁控、热蒸发多种镀膜方式可选

4、可集成手套箱系统

5、可集成多种自动化应用

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薄膜均匀性概念

1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。第五，掌握检漏仪器的反应时刻和消除时刻，把时刻掌握好，确保检漏仪器作业到位，时刻少了，检漏作用必定差，时刻长了，糟蹋检漏气体和人工电费。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。真空镀膜机部件分析真空主体——真空腔根据加工产品要求的各异，真空腔的大小也不一样，目前应用Zui1多的有直径1、3M、0、9M、1、5M、1、8M等，腔体由不锈钢'target=_blank>。 具体因素也在下面给出。

以上内容由艾明坷为您提供，今天我们来分享的是薄膜均匀性概念的相关内容，希望对您有所帮助！

蒸发镀膜

一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于：

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3、蒸发功率，速率

4. 真空度

5. 镀膜时间，厚度大小

组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

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