大宗特气供气系统介绍
大宗特气供气系统主要针对大规模量产的8-12英寸(1英寸=25.4毫米) 超大规模集成电路厂(气体种类包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等),100MW以上的太阳能电池生产线(气体种类包括NH3),发光二极管的磊晶工序线(气体种类包括NH3)、5代以上液晶显示器工厂(气体种类包括4、3、NF3)、光纤(气体种类包括SiCl4)、硅材料外延生产线(气体种类包括HCL)等行业。它们的投资规模巨大,采用1先进的工艺制程设备,用气需求量大,对稳定和不间断供应、纯度控制和安全生产提出严格的要求。
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试验室供气现状
目前我们可以用采用高压气瓶、液体杜瓦瓶、集中供气系统完成上述工作。同时,当地消防规范建议甚至要求将主要的气体源如气瓶、杜瓦瓶和液体储槽放置在工作区外的指1定区域,然后将气体通过管道系统输送至试验室内。
但是考虑安全和效率因素,不考虑经济性因素,集中供气系统是比较优1秀的方式。并成为当今试验室设备使用高纯气体的可靠连续的供应源,气体通过管道系统输送至试验室内,并可通过安装在工作台上的使用点二级减压器方便地调节压力和流量。
国内比较老的试验室在使用气体的时候大多是将气瓶放在用气点的旁边,然后在气瓶出口处安装一个减压器,然后直接通过紫铜管或四氟软管连接到仪器上,如果一个试验室里有多个使用设备时,就会有很多气瓶,同时有很多杂乱的管路,同时这些气体不乏有毒气体、强腐蚀气体,以及气瓶出口高压等因素,使得这种方式在现实使用过程中是充满危险性的。
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小流量气体净化系统
高纯供气系统主要应用于钢瓶气、管道气及气体发生器等的高纯连续供气,应用于超微量水、氧分析仪、气相色谱仪、常压离子质谱仪等各类气体分析仪器纯化载气或零点气,也可用于超高纯度气体管道安装施工中的吹扫气体,更可以为半导体工艺设备提供超高纯的工艺气体。
气体净化系统根据需求采用常温或者高温吸附剂,电化学抛光316L不锈钢管件,出气口配置微米过滤器,其气体纯化指标达到各项杂质含量小于1ppb的世界先进水平。
气体配比仪采用质量流量计,电化学抛光316L不锈钢管件,高纯供气系统生产厂家,双卡套或者VCR气体接头。
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