现代真空镀膜机膜厚测量及监控方法

涂层的镀膜机控制方法是直接的石英晶体微天平(QCM)的方法，该仪器可以直接驱动的蒸发源，通过PID控制回路传动挡板，使蒸发率。只要仪器和系统控制软件的连接，它可以控制涂层的全过程。但(QCM)的准确性是有限的，镀膜机部分原因是其监测代替光学厚度的涂层质量。

此外，虽然QCM在低温下非常稳定，但温度高，它将成为对温度很敏感。在长时间的加热过程中，镀膜机很难避免传感器为敏感的区域，导致薄膜的重大错误。 光学监测是一种涂层优选的监控模式，镀膜机这是因为它能准确控制膜的厚度(如果使用得当)。

精度的提高，由于许多因素，但根本的原因是光学厚度的监测。optimalswa-i-05单一波长的光学监测系统，真空镀膜公司，是间接控制，镀膜机先进的光学监测软件结合王博士的发展，有效地改善和灵敏度变化的光反应的膜厚度的减少终的误差的理论方法，提供监测波长的反馈或传输模式的选择和广泛的。特别适用于涂布各种薄膜厚度监控包括不规则的膜。

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真空镀膜系统

在OLED显示面板的制造过程中，需要在玻璃基板上进行有机膜层的真空蒸镀，该工作步骤需要在真空蒸镀机内来完成。因此，提供一种手套箱蒸镀一体机，本系统由真空镀膜系统和真空手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的存放、制备以及蒸镀后样品的检测。

真空镀膜机原理

真空镀膜机是目前制作真空条件应用为广泛的真空设备，一般用真空室、真空机组、电气控制柜三大部分组成，排气系统采用“扩散泵+机械泵+罗茨泵+低温冷阱+polycold”组成。本公司从事真空镀膜设备的研发与生产拥有经验丰富的技术团队及的售后服务队伍为您解决设备在使用过程中遇到的任何问题。

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